2吨每小时的反渗透纯水设备
产品介绍
反渗透纯水设备用于新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。
集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。都应该使用多种纯化技术相结合制取的纯水，这样才能提高纯水的纯度，符合用水需求。
而制药行业纯水设备采用双级反渗透技术与纯化、技术相结合，出水水质达到美国ASTM、NCCLS、CAP试剂级纯水标准。
工艺设计
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)。
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(工艺)。
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(工艺)。
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(工艺)。
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线器→精密过滤器→用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)。
设备特点
1.采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行。
2.无需酸碱处理，环保无“三废”。
3.自动控制，自动维护，水质在线检测，随时监测水质变化。
4.切合当地水质的个性化设计，满足需求。
5.全自动控制系统，日常操作为简便，系统自动进行冲洗维护，制取产品水过程不需要手工操作。
6.双流路设计，不但可以制造超纯水，还生产纯水，方便用户实验室的不同级别用水要求。
7.预留了升级空间。可以根据用户需要轻松实现功能升级。
技术参数
电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。



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